1. 치석의 정의
치석이란 치면이나 다른 구강 내 구조 표면에 침착된 석회화물질로서 일반적으로 석회화된 치태이다. 치석은 치은변연 상부의 치은연상치석과 치은열구나 치주낭 등 치은변연 하부에 위치하는 치은연하치석으로 구분된다.
2. 임상 양상
치석은 대개 10대 초반에 나타나 연령에 따라 증가하여 40대 이상에서는 100% 존재한다.
치은연하치석은 아동에서는 드물고 성인에서도 치은연상치석에 비해 발생빈도가 약간 낮다.
일반적으로 방사선학적으로 관찰되는 치석의 위치가 치주낭 깊이를 나타내지는 않으며 그 이유는 근단칙 치태가 석회화 되어 있지 않기 때문이다.
3. 구성성분
치석은 70~80%가 무기염으로 이중 2/3는 결정이다. 무기질은 신체 다른 석회화조직과 구성비가 유사한데 Ca 39%, P가 19%, 소량의 Mg, Na, carbonate, F 등이 포함된다.
대개 이들 중 2종류가 동일 치석 내에 존재하는데, 치은연상치석의 경우 hydroxyapatite와 octacalcium phosphate가 대부분을 차지한다(97~100%). Ca/p 비율은 치은연하치석이 치은연상보다 높다.
유기물질은 탄수화물과 단백질 등이 존재한다. 한편 치은연상치석에 존재하는 타액성 단백질은 치은연하에서 발견되지 않는다.
4. 치석의 형성과 석회화
치석은 항상 치태가 형성된 이후에 이루어지며 치태는 석회화를 위한 유기질기질을 제공한다. 처음 세포간기질에 작은 결정이 세균외면에 근접, 위치하며 점차 석회화되면서 세균도 포함된다. 치은연상치석의 형성에서 성숙한 치태가 80%의 무기질을 함유하기까지는 2주 미만이 소요되지만 수 개월 또는 수 년이 지나야 치석이 완전히 성숙하게 된다.
치은연상치석의 광물질 기원은 타액이며, 치은연하치석에서는 치은열구액 또는 삼출액이 광물질을 제공한다. 석회화는 치은연상치태 내면이나 친은연하의 부착성 치태에서 부분적으로 시작되고 병합되어 치석이 형성된다. 이때 치태내 세균의 성분 변화를 수반하기도 하는데 사상균의 수가 증가한다. 10주나 6개월이면 최대량의 치석이 형성되며 이후에는 음식물이나 인접 구강조직에 의해 기계적으로 마모되어 감소하기도 한다.
치태의 광물화 기전은 국소적으로 타액 내의 Ca, P의 포화상태가 증가하여 침전된다는 개념과 핵형성물질이 광물화의 중심을 유도하고 이들이 병합하여 치석을 형성한다는 개념에 의하여 설명되고 있다. 전자의 기전은 타액선도관을 통해 분비된 타액으로부터 co2의 방출이나 미생물에 의한 단백질 분해효소 작용에 따른 타액과 치태내 요소의 증가에 의한 pH의 상승이 기여하는 것으로 알려져 있다. 후자에 있어서 핵성성기시물질로 중요시되는 유기질 기질성분으로는 단백지질이 알려져 있고 변성중인 구강세균도 기여하는 것으로 추정되고 있다.
세균은 치석형성을 증가시키나, 그 형성에 필수적이라기보다는 수동적으로 관여한다는 관점이 우세하다.
5. 치주조직에 대한 효과
치석은 항상 석회화가 안된 치태로 덮여 있으므로 치석과 치태의 치은에 대한 효과를 분리하기는 힘들다. 치석과 치은염증간에는 양성 상관관계가 있으나 치태보다 긴밀하지 않다. 치주질환에 대해 치석표면의 치태가 주된 자극원이며 치석은 기여인자로서 치은을 직접 자극하지 않고 지속적으로 표면의 치태가 부착할 수 있는 고정된 위치를 제공하여 치태가 치은조직에 접촉관계를 유지하게 한다. 즉 치석은 추가적인 치태 축적과 하방의 광화를 유도하는 이상적인 표면 형태를 제공하는 2차적인 역할을 한다. 또한 치은연하치석은 치주낭의 원인이라기 보다는 결과로서, 치태에 의해 치은염이 시작되면 치주낭이 형성되어 치태 및 세균축적의 좋은 장소가 되며 치은열구액도 증가하여 치태가 치석이 될 수 있는 무기질을 제공한다.
6. 임플란트 주위 치석
순수 티타늄에 대한 치석의 부착은 치근면 부착보다 약하다. 따라서 치석이 임플란트 표면에 손상을 주지 않고 임플란트에서 떨어져 나갈 수 있음을 알 수 있다.
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